올레드 A3라인 이르면 2분기부터 반영

최근 3년간 연 5% 미만으로 성장한 삼성전자의 시설투자가 올해는 제법 큰 폭으로 늘어날 전망이다.

지난해 23조원대였던 시설투자 집행액이 올해는 25조원대에 달할 수 있을 것으로 관측된다.

21일 업계에 따르면 삼성전자는 올해 1분기 시설투자에 5조4천억원을 집행했다. 작년 1분기(3조8천800억원)와 비교하면 39.2% 늘어난 액수다.

사업별로는 반도체에 3조3천억원, 디스플레이에 7천억원이 투입됐다.

삼성전자는 지난달 29일 기업설명회에서 올해 시설투자 동향에 대해 “작년과 비슷한 수준이 되겠고 사업별로도 큰 변동은 없을 것”이라고 전망했다.

그러나 지난달 말 삼성디스플레이 이사회에서 충남 아산 A3 신공장의 올레드(OLED·유기발광다이오드) 패널 라인 투자 계획이 확정됨에 따라 이르면 2분기부터 반영될 시설투자 증액 요인이 될 것으로 예상된다.

삼성디스플레이의 시설투자액은 연결기준으로 삼성전자 투자실적에 반영된다.

삼성디스플레이의 한 관계자는 “전체적인 생산능력(capacity)은 패널 시장 상황을 봐야 하겠지만, (올레드 라인이) 내년 상반기 가동 목표인 만큼 하반기부터 본격적으로 투자액이 반영될 것”이라고 말했다.

A3 신공장의 올레드 라인 투자는 총액이 3조∼5조원대로 추정된다.

금융투자업계에서는 올해 집행될 1단계 투자액만 1조원대 후반 또는 2조원대 초반으로 보고 있다.

A3 올레드 라인에서 생산될 디스플레이 패널은 새로 선보인 기어핏 등 웨어러블 기기와 스마트폰에 쓰인다. 삼성전자는 콘퍼런스콜에서 “올레드 패널은 스마트워치·태블릿 제품군 확대 등으로 수요가 꾸준히 증가할 것”이라고 내다봤다.

반도체 부문에서는 지난 9일 준공한 중국 시안(西安) 공장의 후공정라인을 비롯해 지속적인 투자 수요가 있을 것으로 보인다. 삼성전자는 시안 공장에 반도체 테스트와 패키징 라인을 깔아 일관생산체제를 구축할 계획이다.

또 향후 반도체 부문의 중장기 성장을 이끌어갈 핵심공정인 시스템 LSI(large scale integrated circuit) 14나노 공정이 올해 말 양산에 들어가는 등 관련 분야에 연중 투자 집행이 이어질 것으로 보인다.

시스템 LSI는 스마트폰 애플리케이션 프로세서(AP), 디지털카메라 이미지센서, TV 디스플레이 구동장치 등에 응용된다.

소비자가전(CE) 분야에서도 한국·중국 중심의 거점을 베트남을 비롯해 10개국, 12개 해외 거점으로 확대하면서 투자 수요가 발생하고 있다.

삼성전자의 시설투자는 이른바 반도체 치킨게임(과잉공급을 무릅쓰고 경쟁기업이 파산할 때까지 밀어붙이는 식의 투자)이 종료되면서 지난 3년간 정체 양상을 보였다.

2013년 시설투자는 23조7천600억원으로 2012년(22조8천500억원)에 비해 4.0% 늘었고 2012년은 0.8%, 2011년은 4.9% 증가에 그쳤다.

연합뉴스